朝日一

多結晶窒化物半導体のデバイス応用
走査型プローブ顕微鏡による表面微細構造物性の研究
励起ビームを用いた微細加工プロセスの研究
ガスソース分子線法による新材料,微細構造半導体の研究
Device applications of polycrystalline (]G0003[)-nitride semiconductors

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H. Tambo, S. Hasegawa, H. Kameoka, Y. K. Zhou, S. Emura, H. Asahi. Low-temperature molecular beam epitaxy growth and properties of GaGdN nanorods. Journal of Crystal Growth. 2011. 323. 1. 323-325
S. N. M. Tawil, D. Krishnamurthy, R. Kakimi, S. Emura, S. Hasegawa, H. Asahi. Studies on the InGaGdN/GaN magnetic semiconductor heterostructures grown by plasma-assisted molecular-beam epitaxy. JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. 2011. 323. 1. 351-354
H. Tambo, S. Hasegawa, H. Kameoka, Y. K. Zhou, S. Emura, H. Asahi. Low-temperature molecular beam epitaxy growth and properties of GaGdN nanorods. JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. 2011. 323. 1. 323-325
S. N. M. Tawil, D. Krishnamurthy, R. Kakimi, S. Emura, S. Hasegawa, H. Asahi. Studies on the InGaGdN/GaN magnetic semiconductor heterostructures grown by plasma-assisted molecular-beam epitaxy. JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. 2011. 323. 1. 351-354
H. Tambo, S. Hasegawa, K. Higashi, R. Kakimi, S. N. M. Tawil, Y. K. Zhou, S. Emura, H. Asahi. Structural and magnetic properties of diluted magnetic semiconductor GaGdN nanorods. PHYSICA STATUS SOLIDI C: CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 8, NO 2. 2011. 8. 2

電子放出用陰極部とそれを含む蛍光表示装置
イオン注入による不純物導入法
分子線エピタキシャル成長装置
半導体発光素子の製造方法
光・電子集積回路とその製造方法

"Gas Source MBE Growth of Tl-Containing Semiconductors and their Application to Temperature Insensitive Wavelength Laser Diodes", in "Photonics Based on Wavelength Integration and Manipulation"
Institute of Pure and Applied Physics 2005
Encyclopedia of Nanoscience and Nanotechnology
Marcel Dekker 2004
新訂版・薄膜作製応用ハンドブック(分担執筆)
エヌ・ティ・エス 2003
Infrared Detectors and Emitters: Materials and Devices(分担執筆)
Kluwer Academic publishers 2001
結晶成長学辞典(分担執筆)
共立出版 2001

強磁性窒化物半導体のナノ構造における磁性制御に関する研究
2009 -
室温強磁性窒化物物半導体ナノ構造とナノスピントロニクスデバイス応用に関する研究
2009 -
希土類元素添加の精密制御による物性・機能性の開拓
2009 -
スピン依存弾道電子マッピング法の開発と半導体へのスピン注入機構の解明
2009 -
InGaNベース強磁性半導体による長波長円偏光半導体レーザ創製に関する研究
2009 -

- 1976 東京大学工学系研究科物理工学
- 1976 東京大学
- 1971 東京大学工学部物理工学科
- 1971 東京大学

工学博士 (東京大学)

1987 - 2001 大阪大学産業科学研究所助教授
1987 - 2001 大阪大学
2001 - - 大阪大学産業科学研究所教授
2001 - - Osaka University, Professor
1985 - 1987 日本電信電話株式会社電気通信研究所研究員

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2009 - 日本表面科学会協議員
2007 - International Union for Vacuum Science, Technique, and Applications (IUVSTA) Science and Technical Division委員
2007 - 日本表面科学会評議員
2005 - 日本表面科学会関西支部監査
2005 - 日本表面科学会関西支部支部長

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2010 - IPRM Award
2010 - IPRM Award
2009 - 第14回大阪大学共通教育賞(平成20年度第2学期)
2008 - JJAP Editorial Contribution Award
2008 - 応用物理学会フェロー

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