研究者
J-GLOBAL ID:200901018510169110   更新日: 2022年10月01日

末光 眞希

スエミツ マキ | Suemitsu Maki
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (2件): http://db.tohoku.ac.jp/whois/detail/9c4e281152d391d104350f462d63976b.htmlhttp://db.tohoku.ac.jp/whois/e_detail/9c4e281152d391d104350f462d63976b.html
研究分野 (4件): 電気電子材料工学 ,  結晶工学 ,  応用物性 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (16件): 表面水素 ,  表面化学 ,  表面科学 ,  プラズマCVD ,  GSMBE ,  ガスソース分子線エピタキシー ,  MBE ,  分子線エピタキシー ,  エピタキシー ,  結晶成長 ,  微結晶Si ,  SiC ,  SiGe ,  Ge ,  Si ,  半導体
競争的資金等の研究課題 (2件):
  • 2007 - 現在 Si基板上グラフェンとデバイス
  • 1985 - 現在 Si系半導体薄膜のガスソース分子線エピタキシー法による成長
論文 (302件):
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MISC (10件):
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特許 (1件):
  • Method for fabricating a SiC film and a method for fabricating a SiC multi-layered film structure
書籍 (9件):
  • グラフェンの機能と応用展望(普及版)
    シーエムシー出版 2015 ISBN:9784781310305
  • グラフェンの最先端技術と拡がる応用
    (株)フロンティア出版 2012 ISBN:9784902410242
  • グラフェンが拓く材料の新領域
    株式会社 エヌ・ティー・エス 2012 ISBN:9784864690355
  • Graphene: Synthesis and Applications
    CRCPress 2011 ISBN:9781439861875
  • Silicon-germanium(SiGe) nanostructures: Production, properties and applications in electronics
    Woodhead Publishing Limited 2011
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講演・口頭発表等 (386件):
  • GaN-HEMTの表面準位の挙動の顕微分光を用いた定量的解明
    (電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理 -(第23回 2018)
  • SiC基板上エピタキシャルグラフェンの大面積化とその評価
    (第72回応用物理学会東北支部学術講演会 2017)
  • Simple formation of quasi-free-standing epitaxial graphene (QFSEG) using microwave annealing
    (ISEG-2017 2017)
  • Gas-source MBE of cubic SiC on Si and formation of epitaxial graphene thereon
    (ISEG-2017 2017)
  • Quantification of Surface Electron Trapping of GaN Transistors by Using Operando Soft X-ray Photoelectron Nanospectroscopy
    (ISSS-8 2017 2017)
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学位 (1件):
  • 工学博士 (東北大学)
委員歴 (18件):
  • 2014/04 - 2016/03 応用物理学会 東北支部長
  • 2014/04 - 2016/03 応用物理学会 東北支部長
  • 2012/04 - 2013/03 応用物理学会人財育成委員会 委員長
  • 2012/04 - 2013/03 応用物理学会人財育成委員会 委員長
  • 2011/04 - 2013/03 応用物理学会 理事
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受賞 (5件):
  • 2017/09 - 応用物理学会 応物フェロー
  • 2016/08 - IAAM IAAMメダル
  • 2011/11 - 日本表面科学会 平成23年度日本表面科学会論文賞
  • 2011/03 - 応用物理学会欧文誌刊行委員会 2011年度APEX/JJAP編集貢献賞
  • 2005/11/09 - 日本真空協会 第30回熊谷記念真空科学論文賞 Si(100)上ゲルマン吸着に伴う水素移動とGe/Si原子交換の観察
所属学会 (5件):
日本真空協会 ,  日本物理学会 ,  Materials Research Society ,  日本表面学会 ,  日本応用物理学会
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