研究者
J-GLOBAL ID:200901019841562390
更新日: 2022年09月23日
佐々木 晋五
ササキ シンゴ | Sasaki Shingo
研究分野 (1件):
電気電子材料工学
研究キーワード (3件):
薄膜
, 電子・電気材料工学
, Electronic and Electric Materials Engineering
競争的資金等の研究課題 (3件):
2015 - 2018 超高密度磁気記録媒体用の組成変調構造を有するCoPt-酸化物グラニュラ媒体の作製
2012 - 2015 原子層組成変調型積層欠陥フリーCoPt基スパッタ膜の柱状グラニュラ組織の実現
Preparation and Fundamental Characteristics of CuInS2 Thin Film for Photovoltaic Device Application
論文 (20件):
佐々木晋五, 佐々木有三, 斉藤伸. 垂直磁気記録媒体用CoPt基合金-酸化物グラニュラー薄膜の柱状成長臨界膜厚の評価. Journal of the Vacuum Society of Japan. 2017. 60. 3. 112-118
Shingo Sasaki, Shin Saito, Migaku Takahashi. Co-Pt-Cr-CoSi-CoO Sintered Target for Low Ar-gas-pressure Deposition of CoPtCr-SiO2 Granular Film with Stoichiometric SiO2 Phase. IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS. 2013. 49. 12. 5603-5609
佐々木晋五, 斉藤伸, 高橋研. グラニュラー型垂直磁気記録媒体における磁気的交換結合の抑制. Journal of the Vacuum Society of Japan. 2013. 56. 9. 377-381
S. Sasaki, S. Ishibashi, S. Saito, M. Takahashi. Impurity gas analysis in the sputtering process under high Ar gas pressure. Abstract of ICAUMS2012 (The 2nd International Conference of the Asian Union of Magnetics Societies), 2pPS-76. 2012. 113
S. Sasaki, S. Saito, M. Takahashi. Effect of Ar-gas-pressure on oxygen content of Co-Si-O granular film sputter-deposited by using sintered targets. 2ND INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON ADVANCED MAGNETIC MATERIALS AND APPLICATIONS (ISAMMA 2010). 2011. 266. 012062-1-012062-5
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MISC (10件):
佐藤昭規, 中嶋剛, 千葉悦弥, 戸谷一英, 佐々木晋五. [研究室訪問]一関工業高等専門学校. 材料と環境. 2010. 59. 257-258
佐々木晋五, 及川誠二, 佐々木美絵, 千葉隼人, 三上烈史. [高専研究室紹介]一関工業高等専門学校 制御情報工学科 佐々木研究室. SEAJ Journal. 2009. 119. 22-24
The Application of MINDSTORMS for the Engineering Experimental Class. Research Reports of Ichinoseki National College of Technology. 2001. 36,23-30
An Attempt to Construct a Private LAN in the Control-Exercises Room. Research Reports of Ichinoseki National College of Technology. 1999. 34
An Application of CGI Program to CAI System. Research Reports of Ichinoseki National College of Technology. 1999. 34
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特許 (1件):
磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体、並びに磁気記録再生装置
講演・口頭発表等 (16件):
CoPtCrSiターゲットの酸素リアクティブスパッタリングによるCoPtCr-SiO2グラニュラー薄膜の低ガス圧成膜
(第57回真空に関する連合講演会 2016)
垂直磁気記録媒体用CoPt基合金-酸化物グラニュラー薄膜の柱状成長臨界膜厚の評価
(第56回真空に関する連合講演会 2015)
CoPtCrSiターゲットのリアクティブスパッタリングによるCoPtCr-SiO2グラニュラー膜の作製
(第37回日本磁気学会学術講演会 2013)
グラニュラー型垂直磁気記録媒体における成長初期部への高ガス圧成膜層挿入による磁気的交換結合の抑制
(第52回真空に関する連合講演会 2011)
CoPtCr-SiO2グラニュラ膜における柱状成長臨界膜厚の評価
(第35回日本磁気学会学術講演会 2011)
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Works (4件):
磁性薄膜材料に関する研究
佐々木 晋五 2004 - 現在
太陽電池用化合物半導体の調査及び研究
1993 -
Research and Study of Compound Semiconductors for Photovoltaic Device Application
1993 -
The electrical and optical properties of zinc oxide varistors
1987 -
学位 (1件):
工学修士 (豊橋技術科学大学)
経歴 (2件):
2007/04 - 現在 東北大学協定研究員
一関工業高等専門学校 未来創造工学科 電気・電子系 准教授
所属学会 (3件):
日本真空学会
, 日本磁気学会
, 電子通信情報学会
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