研究者
J-GLOBAL ID:200901020306862790   更新日: 2024年01月31日

久保 利隆

クボ トシタカ | Kubo Toshitaka
所属機関・部署:
ホームページURL (1件): http://staff.aist.go.jp/t-kubo/index.htm
研究分野 (4件): 無機材料、物性 ,  電気電子材料工学 ,  基礎物理化学 ,  半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (3件): 金属酸化物表面 エピタキシャル成長 走査トンネル顕微鏡(STM) 非接触原子間力顕微鏡\\\(NC-AFM\\\) 密度汎関数計算\\\(DFT\\\) ,  epitaxial growth ,  surface of oxide
競争的資金等の研究課題 (3件):
  • 2015 - 2017 吸引プラズマによる層状化合物のデジタルエッチング技術の確立
  • 酸化物表面形態の研究
  • Study on surface configuration of oxides
論文 (48件):
  • Mitsuhiro Okada, Yuki Okigawa, Takeshi Fujii, Takahiko Endo, Wen Hsin Chang, Naoya Okada, Toshifumi Irisawa, Yasumitsu Miyata, Tetsuo Shimizu, Toshitaka Kubo, et al. Characterization of band alignment at a metal-MoS2 interface by Kelvin probe force microscopy. Japanese Journal of Applied Physics. 2024
  • Kenta Hiratochi, Daisuke Terada, Hiroshi Suga, Mitsuhiro Okada, Kyoko K Bando, Tetsuya Kodaira, Takatoshi Yamada, Tetsuo Shimizu, Koichiro Saiki, Toshitaka Kubo. Staple-like Graphene-based Macro-Structures. Materials Chemistry Frontiers. 2024
  • 森下 裕貴, 藤井 俊治郎, 本多 信一, 久保 利隆, 清水 哲夫. 熱酸化法により作製した酸化銅ナノワイヤーにおけるCu2O/CuOヘテロ接合の観測. 表面と真空. 2022. 65. 9. 388-393
  • Mitsuhiro Okada, Jiang Pu, Yung-Chang Lin, Takahiko Endo, Naoya Okada, Wen-Hsin Chang, Anh Khoa Augustin Lu, Takeshi Nakanishi, Tetsuo Shimizu, Toshitaka Kubo, et al. Large-Scale 1T′-Phase Tungsten Disulfide Atomic Layers Grown by Gas-Source Chemical Vapor Deposition. ACS Nano. 2022. 16. 8. 13069-13081
  • Mitsuhiro Okada, Naoka Nagamura, Tarojiro Matsumura, Yasunobu Ando, Anh Khoa Augustin Lu, Naoya Okada, Wen-Hsin Chang, Takeshi Nakanishi, Tetsuo Shimizu, Toshitaka Kubo, et al. Growth of MoS2-Nb-doped MoS2 lateral homojunctions: A monolayer p-n diode by substitutional doping. APL Materials. 2021. 9. 12. 121115-121115
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MISC (32件):
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特許 (9件):
学歴 (1件):
  • 1995 - 1998 京都大学 大学院 理学研究科 博士課程 化学専攻
学位 (1件):
  • 理学博士 (京都大学)
経歴 (5件):
  • 2011/04 - 現在 産業技術総合研究所 ナノシステム研究部門
  • 2001/04 - 2009/03 産業技術総合研究所 ナノテクノロジー研究部門 研究職
  • 1998/08 - 2001/03 物質工学工業技術研究所 通商産業技官
  • 1998/04 - 1998/07 分子科学研究所 界面分子科学部門 特別協力研究員
  • 1994/04 - 1995/03 関西日本電気(株) 第二半導体事業部 技術職
受賞 (5件):
  • 2021/03 - SATテクノロジー・ショーケース2021 プレゼンテーション賞(総合得点賞) パターニング銅薄膜を用いたCVDグラフェン膜の位置選択成長
  • 2020/01 - SATテクノロジー・ショーケース2020 ベストアイデア賞 蛍光顕微鏡法を利用した固体基板上グラフェン膜の簡便な観察法の開発
  • 2016/04 - 産業技術総合研究所 平成28年度産総研理事長賞 地域企業連携による『吸引型プラズマ装置』実現
  • 2010 - 日本表面科学会 第22回論文賞 STMとDFTによるルチルTiO2(114)表面構造の研究
  • 2001 - 日本表面科学会 研究奨励賞 MgO(100) 表面上にエピタキシャル成長したチタン酸化物 表面形態の研究:非接触 AFM による研究
所属学会 (4件):
ナノ学会 ,  日本表面真空学会 ,  日本物理学会 ,  日本化学会
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