研究者
J-GLOBAL ID:200901021262228679   更新日: 2020年10月02日

永嶋 誠一

ナガシマ セイイチ | Nagashima Seiichi
所属機関・部署:
職名: その他
研究分野 (2件): 薄膜、表面界面物性 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (4件): 金結晶表面 ,  薄膜 ,  成長様式 ,  薄膜・表面物理
論文 (29件):
講演・口頭発表等 (98件):
  • 桜花での放射性セシウムの移行係数の経年変化
    (第56回日本大学工学部学術研究報告会 2013)
  • 桜花への134Csと137Csの移行係数の経年変化
    (第2回環境放射能除染研究発表会 2013)
  • 桜花への放射性セシウム134と137の移行係数について
    (第55回日本大学工学部学術研究報告会 2012)
  • 被災地域に位置する日本大学工学部の取り組みー「ふるさと創生支援センター」の開設
    (第1回環境放射能除染研究発表会 2012)
  • Relationship between Auger electron intensities and reconstructed structures of Se and Te thin films deposited on Au(111) surfaces.
    (第53回日本大学工学部学術研究報告会 2010)
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学歴 (2件):
  • - 1977 日本大学 大学院 工学研究科 電気工学
  • - 1972 日本大学 工学部 電気工学
学位 (2件):
  • 工学博士 (日本大学)
  • 工学修士 (日本大学)
経歴 (4件):
  • 1996/04 - 日本大学工学部 教授
  • 1989/04 - 1996/03 日本大学工学部 助教授
  • 1979/04 - 1989/03 日本大学工学部 専任講師
  • 1977/04 - 1979/03 日本大学工学部 助手
委員歴 (1件):
  • 2013/10 - 2014/07 環境放射能除染学会 第3回環境放射能除染研究発表会実行委員長
所属学会 (4件):
応用物理学会 ,  電子情報通信学会 ,  日本結晶成長学会 ,  日本表面科学会
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