研究者
J-GLOBAL ID:200901021761214506
更新日: 2022年09月04日
星 陽一
ホシ ヨウイチ | Hoshi Yoichi
ホームページURL (1件):
http://www.t-kougei.ac.jp/engineering/index.html
研究分野 (1件):
電気電子材料工学
研究キーワード (4件):
電気・電子材料工学
, 薄膜工学
, Electric and Electronic Material Engineering
, Thin film process engineering
競争的資金等の研究課題 (6件):
プラスチック基板上への低抵抗透明導電膜作製技術の開発
高密度磁気記録媒体用バリウムフェライト薄膜の開発
スパンタ法による薄膜堆積過程の解明とその制御
Sputtern deposition of transparent conductive thin films on plastic substrate
Deposition of barium ferrite films for high density magnetic recording media
Control of film deposition process in sputtering
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MISC (39件):
Y. Hoshi, E. Suzuki, H. Shimizu. Control of crystal orientation of Ti thin films by sputtering. Electrochimica Acta. 1999. 44. 21. 3945-3952
Y. Hoshi, R. Ohki. Low energy rf sputtering system for the deposition of ITO thin films. Electrochimica Acta. 1999. 44. 21. 3927-3932
清水 英彦, 篠崎 秀明, 星 陽一, 加藤 景三, 金子 双男. 原子層積層法によるC軸配向Baフェライト超薄膜の作製. 日本応用磁気学会誌. 1999. 1999. 4. 1209-1212
清水英彦, 篠崎秀明, 星陽一, 加藤景三, 金子双男. 原子層積層法によるC軸配向Baフェライト超薄膜の作製. 日本応用磁気学会誌. 1999. 23. 4-2. 1209-1212
Crystal stracture and microstructre of nickel film deposited at liquid nitrogen temperature by sputtering. Electrochimica Acta. 1999. 44. 21/22. 3933-3944
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学歴 (4件):
- 1976 東京工業大学 理工学研究科 電気工学
- 1976 東京工業大学
- 1974 新潟大学 工学部 電子工学科
- 1974 新潟大学
学位 (1件):
工学博士
所属学会 (5件):
IEEE
, 電気学会
, 応用物理学会
, 電子・情報・通信学会
, 日本応用磁気学会
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