研究者
J-GLOBAL ID：200901025538167917   更新日: 2022年08月22日

後藤 芳彦

ゴトウ ヨシヒコ | Gotoh Yoshihiko
所属機関・部署：
東京理科大学 基礎工学部 材料工学科

東京理科大学 基礎工学部 材料工学科 について


職名： 教授
研究分野 (3件)： 金属材料物性 ,  薄膜、表面界面物性 ,  磁性、超伝導、強相関系
研究キーワード (8件)： 材料プロセス ,  薄膜の成長と構造 ,  結晶成長 ,  表面・界面 ,  Material Processing ,  Growth and Structure of Thin Films ,  Crystal Growth ,  Surface and Interface
競争的資金等の研究課題 (6件)：
  • RHEEDによる表面蒸着の研究
  • 薄膜のエピタキシャル成長
  • 薄膜の成長
  • Deposited Surface by RHEED
  • Epitaxial Growth of Thin Films
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MISC (69件)：
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書籍 (11件)：
  • 結晶成長
    内田老鶴国 2003
  • Structure Analysis of WB<sub>2</sub>(0001) Surface
    Proceedings of The 5th NIRIM International Symposium on Advanced Materials 1998
  • Growth of Ag Crystallites on Mo(110) Substrate Observed by "in-situ" SEM
    Advances in the Understanding of Crystal Growth Mecanisms, Elsevier Science B. V. 1997
  • Growth of Ag Crystallites on Mo(110) Substrate Observed by "in-situ" SEM
    Advances in Understanding of Crystal Growth Mechanisms, Elsevier Science B. V. 1997
  • ヘテロエピタキシー成長様式 結晶成長ハンドブック
    共立 1995
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学歴 (4件)：
  • - 1967 東北大学 理学研究科 物理学
  • - 1967 東北大学
  • - 1964 東北大学 理学部 物理学科
  • - 1964 東北大学
学位 (2件)：
  • 理学博士
  • 理学修士
委員歴 (3件)：
  • 1999 - 2000 応用物理学会 評議員,理事
  • 2000 - 日本金属学会 評議員
  • 1997 - 1998 日本結晶成長学会 理事
受賞 (1件)：
  • 1979 - 応用物理学会賞
所属学会 (4件)：
日本金属学会 ,  日本結晶成長学会 ,  応用物理学会 ,  日本物理学会
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