研究者
J-GLOBAL ID：200901028901263370   更新日: 2011年07月14日

眞壁 勗

マカベ ツトム | Makabe Tsutomu
所属機関・部署：
旧所属 日本大学 芸術学部 一般教育

旧所属 日本大学 芸術学部 一般教育 について


職名： 教授
研究分野 (1件)： 半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (6件)： 結晶構造 ,  半導体 ,  薄膜 ,  Crystal Structure ,  Semiconductor ,  Thin Film
競争的資金等の研究課題 (4件)：
  • 1987 - 焼結体の物性と応用
  • 1987 - Property and Application of Sintered Materials
  • 1983 - 透明伝導薄膜
  • 1983 - Transparent Conductive Thin Film
MISC (38件)：
  • 眞壁 勗. ZnO-In2O3の構造と電気的特性. 日本大学芸術学部紀要. 2010. 56. 45
  • MAKABE Tsutomu. Structure and Electrical Properties of ZnO-In2 O3. Research in Arts College of Art, Nihon-University. 2010. 56. 45
  • 眞壁 勗. 焼結体Sb添加In2O3の評価. 日本大学芸術学部紀要. 2008. 48. 91
  • MAKABE Tsutomu. Evaluation of Sintered Sb-doped In2O3. Research in Arts College of Art, Nihon University. 2008. 48. 91
  • 眞壁 勗. Sb添加In2O3の電気及び光学的特性. 日本大学芸術学部紀要. 2007. 45. 89
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書籍 (2件)：
  • A Study of Reactively Sputtered CdS Thin Films.
    東京理科大学 1972
  • A Study of Reactively Sputtered CdS Thin Films.
    Tokyo University of Science 1972
講演・口頭発表等 (22件)：
  • R.F.スパッタ法によるIn<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:Te 薄膜の製作
    (応用物理学会 1988)
  • Preparetion of In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>:Te Thin Film Prepared by R.F. Sputtering
    (The Japan Socity of Applied Physics 1988)
  • R.F.スパッタ法による CdIn<sub>2</sub>O<sub>4</sub>透明伝導膜の電気的、光学的特性
    (応用物理学会 1987)
  • Electrical and Optical Properties of Transparet Conductive CdIn<sub>2</sub>O<sub>4</sub> Thin Films Prepared by R.F. Sputtering
    (The Japan Society of Applied Physics 1987)
  • R.F.スパッタCdIn<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 薄膜
    (応用物理学会 1986)
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学位 (1件)：
  • 理学修士 (東京理科大学)
所属学会 (8件)：
応用物理学会 ,  日本物理学会 ,  日本科学史学会 ,  日本セラミックス協会 ,  The Japan Society of Applied Physics ,  The Physical Society of Japan ,  The History of Science Society of Japan ,  The Ceramic Society of Japan
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