高林外広

タカバヤシソトヒロ | Takabayashi Sotohiro

所属機関・部署：
職名：統括研究員
その他の所属（所属・部署名・職名） (1件)：

研究分野 (3件)：無機材料、物性 , 金属材料物性 , 薄膜、表面界面物性

研究キーワード (7件)：マイクロ波焼成 , 反応性スパッタリング , 酸化チタン膜 , NiTi形状記憶合金膜 , Microwave , film , Photocatalysis

競争的資金等の研究課題 (4件)：

MISC (14件)：

高林外広、高橋伸忠、高木憲一、光触媒膜の作製技術. Japan Energy & Technology Intelligence,. 2002. Vol.50,No.2,(2002)67-39
Sotohiro.TAKABAYASHI, Petr. ZEMAN, Nobutada. TAKAHASHI, Ken-ichi.TAKAGI, Photocatalytic properties of the low reflection SiO2/TiO2/SiO2 film with micro-holes deposited by reactive m.f. magnetron sputtering,. proceedings of CRC International Symposium on photochemistry @ interfaces. 2002. 2
P.Zeman, S. Takabayashi, Effect of total and oxygen partial pressures on structure of photocatalytic TiO2 films sputtered on unheated substrate. Surface and Coatings Technology. 2002. No.153, 93-99
P.Zeman, S.Takabayashi,Self-cleaning and antifogging effects of TiO2 films prepared by radio frequency magnetron sputtering. J. of Vacuum and Technology. 2002. A20(2) Mar. Apr 388
高林外広、Petr ZEMAN、高橋伸忠,ポリカーボネート上に作製したSiO2/TiO2/SiO2膜の光触媒特性,. 光触媒. 2001. Vol.5 (2001)23-26

特許 (4件)：

学歴 (2件)：

学位 (1件)：

所属学会 (2件)：

日本材料学会 , 日本応用物理学会

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高林 外広