研究者
J-GLOBAL ID：200901029644775719   更新日: 2022年09月22日

移川 欣男

ウツシカワ ヨシオ | Utsushikawa Yoshio
ホームページURL (1件)： http://utsu-lab.ee.cit.nihon-u.ac.jp/
研究分野 (4件)： 結晶工学 ,  応用物性 ,  磁性、超伝導、強相関系 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (26件)： 光触媒 ,  酸化チタンTiO2 ,  磁気抵抗効果 ,  ナノ結晶 ,  固体物理 ,  非晶質 ,  結晶 ,  磁石エネルギー積 ,  透磁率 ,  電気電子材料 ,  機能性材料 ,  永久磁石材料 ,  軟質磁性材料 ,  磁性体材料 ,  Photocatalysis ,  TiO2 ,  Magnetoresistance effect ,  Nano crystallization ,  Solid state physics ,  Amorphous ,  Crystal ,  (BH)max ,  High permeability ,  Electrical and Electronic Materials ,  Soft and Hard magnetic materials ,  Ferromagnetic materials
競争的資金等の研究課題 (12件)：
  • 2001 - TiO2薄膜のUV/VR照射による光触媒活性ならびに電気抵抗率の低下現象
  • 2001 - Photcatalytic activities and Decreasing Phenomena of Electrical Resistivities for TiO2 Thin Films Prepared by Magnetoron Sputtering Method
  • (2)環境浄化作用を有する二酸化チタン(TiO2)に関する技術開発
  • 強磁性体材料とそれらの応用技術
  • プラズマ中で作製したカーボン薄膜の磁気的電気的性質に関する研究
全件表示
MISC (105件)：
もっと見る
講演・口頭発表等 (39件)：
  • 窒素プラズマ照射による窒化鉄薄帯の磁気特性
    (平成23年度電気学会 基礎・材料・共通(A)部門大会 2011)
  • RFマグネトロンスパッタリング法によるTi-N系薄膜における諸特性
    (平成23年度電気学会 基礎・材料・共通(A)部門大会 2011)
  • Magnetic Properties of Iron Nitried Foil Irradiated with Nitrogen Plasma
    (2011)
  • Physical Properties of Ti-N system Films by RF Magnetron Sputtering Method
    (2011)
  • RFマグネトロンスパッタリング法による酸化ニオブ膜の諸物性
    (平成22年電気学会基礎・材料・共通部門大会 2010)
もっと見る
学歴 (2件)：
  • - 1966 東京理科大学 理学部 物理学科
  • - 1966 Science University of Tokyo Faculty of Science
学位 (1件)：
  • 工学博士 (東北大学)
経歴 (6件)：
  • 1966 - 1989 :日本大学生産工学部電気工学科副手,助手,専任講師,助教授
  • 1966 - 1989 :DEPARTMENT OF ELECTRICAL ENGINEERING
  • 1989 - -:日本大学 教授
  • 1989 - -:NIHON UNIVERSITY PROFESSOR
  • 日本大学 生産工学部 電気電子工学科 教授
全件表示
受賞 (3件)：
  • 2006 - 電気学会技術報告賞
  • 1984 - 日本金属学会技術開発賞
  • 1982 - 中小企業庁長官奨励賞
所属学会 (5件)：
日本金属学会 ,  電気学会 ,  日本応用磁気学会 ,  日本材料学会 ,  応用物理学会
※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る

TOP

BOTTOM