研究者
J-GLOBAL ID:200901035103443730
更新日: 2020年08月28日
高橋 正志
タカハシ タダシ | Takahashi Tadashi
所属機関・部署:
旧所属 静岡大学 大学院理工学研究科
旧所属 静岡大学 大学院理工学研究科 について
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職名:
大学院生
研究キーワード (4件):
磁性材料
, 薄膜
, Magnetic Materials
, Thin Film
競争的資金等の研究課題 (2件):
2001 - 大気圧ハライドCVD法により作製した室化鉄薄膜に関する研究
2001 - Study on Iron Nitride Thin Films Prepared By Atmospheric Pressure Halide CVD
MISC (4件):
N. Tamura, N. Takahashi, T. Nakamura, T. Takahashi. Growth of Fe4N thin films by atmospheric pressure vapor phase epitaxy. Journal of Materials Science Letters. 2002. 21. 4. 321-323
Growth of Fe
4
N thin films by atmospheric pressure vapor phase epitaxy. Journal of Materials Science Letters. 2002. 21, 321-323
Growth of Fe
4
N epitaxial layers displaying anomalous light reflectivity modulated by an external magnetic field. Journal of Materials Chemistry. 2001. 11, 3154-3157
Growth of Fe
4
N epitaxial layers displaying anomalous light reflectivity modulated by an external magnetic field. Journal of Materials Chemistry. 2001. 11, 3154-3157
学位 (1件):
修士(工学) (岡山大学)
所属学会 (2件):
応用物理学会
, The Japan Sciety of Applied Physics
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