研究者
J-GLOBAL ID:200901037039194162   更新日: 2023年12月11日

阿部 治

アベ オサム | ABE Osamu
所属機関・部署:
職名: 主幹研究員
ホームページURL (1件): https://www.pref.yamanashi.jp/yitc/
研究分野 (1件): 応用物理一般
研究キーワード (9件): プラスチック射出成形 ,  光造形 ,  密着性評価 ,  EMC ,  CAE ,  光学測定 ,  酸化亜鉛 ,  CAE ,  light-emitting Semiconductor
論文 (3件):
  • Muranaka, T., Sakano, T., Mizuguchi, K., Nabetani, Y., Akitsu, T., Matsumoto, T., Hagihara, S., Abe, O., Hiraki, S., Fujikawa, Y. XRD characterization of ZnO layers grown on GaAs(111)B, c-plane and a-plane sapphire substrates by plasma-assisted MBE. Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics. 2010. 7. 6
  • Muranaka, T., Uehara, T., Sakano, T., Nabetani, Y., Akitsu, T., Kato, T., Matsumoto, T., Hagihara, S., Abe, O., Hiraki, S., et al. Doping profiles and nanostructural properties of molecular-beam-deposited GZO thin films on glass substrates. Journal of the Korean Physical Society. 2008. 53. 5 PART 2. 2897-2900
  • Muranaka, T., Nisii, A., Uehara, T., Sakano, T., Nabetani, Y., Akitsu, T., Kato, T., Matsumoto, T., Hagihara, S., Abe, O., et al. Electrical and optical properties of Ga-doped ZnO films grown on glass and plastic substrates by using plasma-assisted deposition. Journal of the Korean Physical Society. 2008. 53. 5 PART 2. 2947-2950
学位 (1件):
  • Master(Science) (Hokkaido University)
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