研究者
J-GLOBAL ID:200901038600543429
更新日: 2022年09月03日
川畑 州一
カワバタ シュウイチ | Kawabata Shuichi
ホームページURL (1件):
http://www.t-kougei.ac.jp/engineering/index.html
研究分野 (1件):
光工学、光量子科学
研究キーワード (2件):
偏光解析法
, Ellipsometry
競争的資金等の研究課題 (2件):
2001 - 2006 偏光解析法による薄膜及び蒸着初期過程の研究
Ellipsometric study of thin films and the initial stage of the deposition
MISC (10件):
偏光解析法によるアルミニュウムオフセット印刷板のシリケート処理に関する研究. 日本応用物理. 2000. 39. 5239-5243
川畑 州一, Shuichi KAWABATA, 東京工芸大学工学部基礎・教養. HtmlとJavaによる物理学電子テキストの作成. 東京工芸大学工学部紀要. 2000. 23. 1. 19-25
Shuichi Kawabata, Toshio Sugai, Kazuo Futami. Ellipsometric Study of Silicate Treatment of Aluminum offset Printing Plates. Jpn. J. Appl. Phys. 2000. 39. 9A. 5239-5242
川畑 州一, Shuichi KAWABATA, 東京工芸大学工学部基礎・教養. HtmlとJavaによる物理学電子テキストの作成. 東京工芸大学工学部紀要 = The Academic Reports, the Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnic University. 2000. 23. 1. 19-25
Yoshihisa Murakami, Tsutomu Ogawa, Moriaki Wakaki, Shuichi Kawabata. In-Situ Ellipsometric Observations of Thickness Change in the Layers of Ag/a-As
2
S
3
Film System with Progression of Photodoping(共著). Jpn.J.Appl.Phys. 2000. 39. 2A. 509-510
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書籍 (1件):
速解光サイエンス辞典(分担)
オプトロニフス社 1998
学位 (1件):
理学博士 (学習院大学)
所属学会 (3件):
日本光学会
, 物理学会
, 応用物理学会
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