研究者
J-GLOBAL ID:200901042704346070
更新日: 2022年12月26日
増田 剛
マスダ ツヨシ | TSUYOSHI MASUDA
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所属機関・部署:
CMCマテリアルズ株式会社
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研究分野 (4件):
分析化学
, 基礎物理化学
, ナノ構造物理
, ナノ構造化学
研究キーワード (8件):
CMP
, スラリー
, レオロジー
, コロイド
, CMP
, Slurry
, Rheology
, Colloid
競争的資金等の研究課題 (2件):
2005 - 2008 CMPスラリーのキャラクタリゼーションと研磨機構の解明
2005 - 2008 Characterization of CMP slurry and Mechanisms of polishing
学位 (1件):
工学修士
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