研究者
J-GLOBAL ID：200901044148302494
更新日: 2005年03月06日
川原 潤
カワハラ ジュン | KAWAHARA JUN
所属機関・部署：
広島大学 大学院先端物質科学研究科 半導体集積科学専攻
広島大学 大学院先端物質科学研究科 半導体集積科学専攻 について
「広島大学 大学院先端物質科学研究科 半導体集積科学専攻」ですべてを検索
機関情報を見る
職名：
大学院生(博士課程)
研究分野 (2件)：
電子デバイス、電子機器
, 電気電子材料工学
研究キーワード (2件)：
層間絶縁膜
, luten Layer Dielectrics
競争的資金等の研究課題 (1件)：
2004 - 2006 層間絶縁膜の低誘電率化
MISC (4件)：
Highly thermal-stable, plasma polymerized BCB polymer film. Plasma Sources Science and Technology. 2003. Vol. 12, pp. S80-S88
Highly thermal-stable, plasma polymerized BCB polymer film. Plasma Sources Science and Technology. 2003. Vol. 12, pp. S80-S88
Analysis of Processing Damage on a Ferroelectric SrBi2Ta2O9 Capacitor for Ferroelectric Random Access Memory Device Fabrication. Japanese Journal of Applied Physics. 2001. Vol40, p. 2341
Analysis of Processing Damage on a Ferroelectric SrBi2Ta2O9 Capacitor for Ferroelectric Random Access Memory Device Fabrication. Japanese Journal of Applied Physics. 2001. Vol40, p. 2341
学位 (1件)：
修士(工学) (東京工業大学)
所属学会 (1件)：
応用物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、
researchmap
の登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、
こちら
をご覧ください。
前のページに戻る
TOP
BOTTOM
