研究者

J-GLOBAL ID：200901044560247333 更新日: 2022年09月13日

中村初夫

ナカムラハツオ | Nakamura Hatsuo

所属機関・部署：
職名：教授

研究分野 (4件)：薄膜、表面界面物性 , 結晶工学 , 応用物性 , 半導体、光物性、原子物理

研究キーワード (4件)：半導体 , X線スペクトル , Semiconductor , X-ray spectra

競争的資金等の研究課題 (2件)：

1986 - シリコン基板上の金属・シリサイドの軟X線分光
1986 - Soft X-ray spectroscopy for metal and/or silicides on Si substrates

MISC (83件)：

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学歴 (2件)：

- 1967 大阪市立大学工学部応用物理
- 1967 大阪市立大学

学位 (1件)：

工学博士 (大阪府立大学)

経歴 (6件)：

1990 - - 大阪電気通信大学工学部教授
1990 - - Professor of Osaka-Electro-Communication
1985 - 1986 アメリカ合衆国 Stanford大学客員研究員
1985 - 1986 Visiting Researcher, Electrical Engineering,
University

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所属学会 (3件)：

日本表面科学会 , 応用物理学会 , 日本物理学会

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