研究者
J-GLOBAL ID:200901045490643895   更新日: 2022年09月28日

辻 博司

ツジ ヒロシ | Tsuji Hiroshi
所属機関・部署:
職名: 助手
ホームページURL (1件): http://mvtpc3.kuee.kyoto-u.ac.jp/index-j-html
研究分野 (3件): 電子デバイス、電子機器 ,  応用物理一般 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (8件): 電子源 ,  表面改質 ,  イオン注入 ,  イオンビーム技術応用 ,  イオン源 ,  Electron Emitter ,  Application Technique of Ion Beam ,  Ion Source
競争的資金等の研究課題 (8件):
  • 2002 - 2004 Study on Surface Modification of Polymers for Biocompatibility by Negative-Ion Implamtation and Development of Bio-interface.
  • 2001 - 2004 Study on Negative Ion Implantation Technique.
  • 2000 - 負イオン注入技術に関する研究
  • 1979 - 1996 大電流正及び負イオン源の開発に関する研究
  • 1996 - パターン化負イオン注入処理による高分子材料の生体適合性の改質と神経バイオインターフェイスおよびバイオセンサー、再生医療用材料の開発
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論文 (261件):
MISC (114件):
書籍 (6件):
  • Ion Implantation Technique Using Negative Ions for Artificial Neuron Network on Polystyrene in cell Culture
    2000 International Conference on Ion Implantatin Technology Proceedings(IEEE),IIT2000, pp.809-812 2001
  • Negative-Ion Implanter and Formation of Metal Nanoparticles in Glass
    2000 International Conference on Implantation Technology Proceedings (IEEE),IIT2000, pp.745-748 2001
  • Charging Voltage Measurement of an Isolated Electrode and Insulators during Negative-Ion Implantation
    Ion Implantation Technology-94 (Elsevier Science B. V. ),11T-94/,612-615 1995
  • 負イオン注入における孤立電極と絶縁物の帯電電圧の測定
    イオン注入技術94(エルゼビア出版),11T-94/,612-615 1995
  • High Current RF-Plasma-Sputter-Type Heavy Negative-Ion Source for Negative-Ion Implanter
    Ion Implantation Technology-94 (Elsevier Science B. V. ),11T-94/,495-498 1995
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学歴 (4件):
  • - 1976 京都工芸繊維大学 工芸学研究科 電気工学専攻
  • - 1976 京都工芸繊維大学
  • - 1974 京都工芸繊維大学 工芸学部 電気工学科
  • - 1974 京都工芸繊維大学
学位 (1件):
  • 工芸学修士 (京都工芸繊維大学)
委員歴 (2件):
  • 1992 - 1996 応用物理学会 プログラム委員
  • 1992 - 1993 日本真空協会 編集副部会長
受賞 (1件):
  • 2001 - 第26回熊谷記念真空科学論文賞(日本真空協会)
所属学会 (2件):
日本真空協会 ,  応用物理学会
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