研究者
J-GLOBAL ID:200901046551760756   更新日: 2022年09月30日

塩嵜 忠

シオサキ タダシ | Shiosaki Tadashi
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (5件): 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学 ,  光工学、光量子科学 ,  結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (17件): 環境保全 ,  鉛フリー ,  PTC ,  表面波 ,  マイクロ波 ,  誘電体 ,  電気的性質 ,  圧電 ,  光学デバイス ,  光学的性質 ,  強誘電体 ,  セラミックス ,  単結晶 ,  薄膜 ,  Electrical Properties and Applications of Ferroelectric Thin Film ,  Optical and Piezoelectrical Single Crystal and Ceramics ,  Growth and Properties of Ferroelectric Thin Film
競争的資金等の研究課題 (14件):
  • 1990 - MOCVDならびにスパッタリング法による強誘電体薄膜の作製とその特性評価
  • 光応用・超音波応用
  • 強誘電体薄膜作製
  • 強誘電体・圧電体のデバイス応用
  • 可変容量マイクロ波誘電体薄膜の作製とその周波数フィルタへの応用
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MISC (195件):
特許 (6件):
  • ジルコニア粉末、該ジルコニア粉末を用いて得られるチタン酸バリウム系半導体磁器組成物およびその製造方法
  • 有機金属化学気相堆積装置用原料気化器
  • 液体充填平衡気化を可能とする有機金属化学気相推積装置用原料気化器
  • 圧電材料及び圧電部材
  • 圧電材料、圧電デバイス用基板及び表面弾性波装置
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書籍 (22件):
  • 「電気電子材料」 series電気・電子・情報系 6
    共立出版株式会社 2005
  • 絶縁・誘電セラミックスの応用技術
    シーエムシー出版 2003
  • 半導体セラミックスの応用技術
    シーエムシー出版 2003
  • 圧電材料とその応用
    シーエムシー出版 2002
  • "Growth of LiNbO<sub>3</sub> Thin Films by Bias Sputtering"
    Proceedings of the Eleventh IEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics 1998
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Works (6件):
  • MOCVD法による酸化物薄膜の作製
    2005 -
  • Fabrication of thin oxide films by MOCVD
    2005 -
  • 電子セラミックスの環境に与える影響に関する国際会議(上海会議)
    2003 -
  • Meeting on Environmental Aspects of Electroceramics In Shanghai
    2003 -
  • 強誘電体膜の研究
    1998 - 2000
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学歴 (4件):
  • - 1968 京都大学 工学研究科 電気工学第二
  • - 1968 京都大学
  • - 1966 京都大学 工学部 電子工学
  • - 1966 京都大学
学位 (2件):
  • 工学博士 (京都大学)
  • 工学修士 (京都大学)
経歴 (10件):
  • 1995 - 1998 京都大学大学院工学研究科 助教授
  • 1995 - 1998 Kyoto University, Graduate School, Assistant
  • 1974 - 1978 京都大学工学部 助教授
  • 1974 - 1978 Kyoto University, Assistant Professor
  • 1978 - 米国カリフォルニア大学 バークレー校
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委員歴 (2件):
  • 1993 - 1995 IEEE(アメリカ) フェロー,論文委員,アドミニストラティブカミッティ委員
  • 財団法人科学技術振興会 誘電体研究委員会委員長
受賞 (3件):
  • 1981 - Fulrath Award
  • 1981 - Fulrath Awaed
  • 1979 - 渡辺 寧 賞
所属学会 (9件):
財団法人科学技術振興会 ,  日本ハイパ-サ-ミア学会 ,  日本材料学会 ,  日本音響学会 ,  物理学会 ,  応用物理学会 ,  電気学会 ,  電子情報通信学会 ,  IEEE(アメリカ)
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