研究者
J-GLOBAL ID：200901046763902712   更新日: 2023年06月12日

合田 一夫

ゴウダ カズオ | Goda Kazuo
ホームページURL (1件)： http://www.hino.meisei-u.ac.jp/phys/goda/index.htm
研究分野 (3件)： 薄膜、表面界面物性 ,  数理物理、物性基礎 ,  半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (2件)： 薄膜 ,  放射線物理
競争的資金等の研究課題 (2件)：
  • 固体における放射線効果に関する研究
  • ナノ結晶シリコンの発光
MISC (43件)：
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書籍 (1件)：
  • 相対論・量子論
    明星大学出版部 1989
講演・口頭発表等 (25件)：
  • リサイクル可能な電子デバイス作製法の模索
    (連携研究センター研究成果報告会(明星大学) 2009)
  • 複合表面分析装置によるCr薄膜の作成と評価
    (明星大学成果報告会-物性研究センター・産学官連携推進室合同シンポジウム- 2008)
  • Cr薄膜形成におけるSi基板酸化膜の反射率への影響
    (明星大学成果報告会-産学連携の事例発表と物性研究センターシンポジウムの合同発表会-(明星大学) 2007)
  • クロム超薄膜形成における基板界面状態
    (八王子産学公連携機構第7回研究成果発表会 2007)
  • 環境調和型材料β-FeSi2の薄膜形成
    (第2回物性研究センターシンポジューム要旨集(明星大学) 2007)
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Works (33件)：
  • 複合表面分析装置によるCr薄膜の作成と評価(明星大学成果報告会-物性研究センター・産学官連携推進室合同シンポジウム-)
    2008 -
  • Cr薄膜形成におけるSi基板酸化膜の反射率への影響(明星大学、明星大学成果報告会-産学連携の事例発表と物性研究センターシンポジウムの合同発表会-)
    2007 -
  • クロム超薄膜形成における基板界面状態(八王子産学公連携機構第7回研究成果発表会)
    2007 -
  • 環境調和型材料β-FeSi2の薄膜形成(明星大学、第2回物性研究センターシンポジューム要旨集)
    2007 -
  • 中性クラスター蒸着法による可視発光シリコン薄膜の作製とその評価(第1回物性研究センターシンポジュウム要旨集)
    2005 -
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学歴 (2件)：
  • - 1984 早稲田大学 理工学研究科 物理学及応用物理学
  • - 1984 早稲田大学
学位 (1件)：
  • 理学博士 (早稲田大学)
経歴 (6件)：
  • 1993 - 2002 明星大学理工学部 物理学科 助教授
  • 2002 - - 明星大学理工学部 物理学科 教授
  • 1987 - 1993 明星大学理工学部 物理学科 専任講師
  • 1984 - 1987 明星大学理工学部 物理学科 助手
  • 1979 - 1984 明星大学理工学部 物理学科 嘱託助手
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所属学会 (5件)：
日本原子力研究所との協力研究 ,  電気学会耐放射線性誘電・絶縁材料調査専門委員会 ,  日本放射線化学会 ,  日本物理学会 ,  応用物理学会
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