研究者
J-GLOBAL ID:200901047079089286   更新日: 2024年02月01日

高村(山田) 由起子

タカムラ ユキコ | YAMADA-TAKAMURA Yukiko
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.jaist.ac.jp/ms/labs/yukikoyt/
研究分野 (4件): 薄膜、表面界面物性 ,  ナノ構造物理 ,  材料加工、組織制御 ,  ナノ材料科学
研究キーワード (11件): ナノ材料 ,  二次元材料 ,  シリセン ,  二ホウ化ジルコニウム ,  ダイヤモンド ,  窒化ガリウム ,  シリコン ,  薄膜 ,  分子線エピタキシー ,  超高真空 ,  走査プローブ顕微鏡
競争的資金等の研究課題 (17件):
  • 2021 - 2026 2.5次元物質科学の総括
  • 2021 - 2026 2.5次元構造の新奇物性開拓
  • 2020 - 2024 実験と計算の協奏による二次元フラットバンドマテリアルの創成
  • 2014 - 2018 エピタキシャルシリセンの界面制御
  • 2013 - 2016 第一原理計算によるグラフェンを超える二次元材料の研究
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論文 (78件):
  • Chin-En Hsu, Yung-Ting Lee, Chieh-Chun Wang, Chang-Yu Lin, Yukiko Yamada-Takamura, Taisuke Ozaki, Chi-Cheng Lee. Atomically thin metallic Si and Ge allotropes with high Fermi velocities. PHYSICAL REVIEW B. 2023. 107. 11
  • Kali Prasanna Mondal, Sambhunath Bera, Ajay Gupta, Raj Kumar, Gangadhar Das, Gouranga Manna, Nobuaki Ito, Yukiko Yamada-Takamura. Tailoring the magnetic properties of Co20Fe60B20/SmCo5 bilayers: Effects of argon ion implantation. MATERIALS LETTERS. 2022. 316
  • Kali Prasanna Mondal, Sambhunath Bera, Ajay Gupta, Dileep Kumar, V. Raghavendra Reddy, Gangadhar Das, Arnab Singh, Yukiko Yamada- Tamakura. Growth behavior, physical structure, and magnetic properties of iron deposited on Tris(8-hydroxy quinoline)-aluminum. Applied Surface Science. 2021. 562. 150169-150169
  • A. Fleurence, Y. Yamada-Takamura. Adatom-induced dislocation annihilation in epitaxial silicene. 2D MATERIALS. 2021. 8. 4
  • Chi-Cheng Lee, Ji-Yao Chiu, Yukiko Yamada-Takamura, Taisuke Ozaki. Hidden competing phase revealed by first-principles calculations of phonon instability in the nearly optimally doped cuprate La1.875Sr0.125CuO4. Physical Review B. 2021. 104. 6. 064114
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MISC (17件):
  • 深谷有喜, 𠮷信淳, アントワーヌ・フロランス, 高村(山田)由起子. ZrB2(0001)薄膜表面上の二次元Ge二重三角格子. PHOTON FACTORY NEWS. 2021. 39. 3. 24-27
  • 福本航大, LIU C., 新田寛和, FLEURENCE Antoine, 高村(山田)由起子, 大島義文. 多層GaSeの電気伝導における電子線照射効果のその場TEM観察. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
  • CHEN Tongmin, 米澤隆宏, 村上達也, 東嶺孝一, FLEURENCE Antoine, 大島義文, 高村(山田)由起子. Ge(111)基板上にMBE成長したGaSe薄膜の平面STM・STEM観察. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2020. 67th
  • 米澤隆宏, 村上達也, 東嶺孝一, CHEN Tongmin, 新田寛和, 久瀬雷矢, FLEURENCE Antoine, 大島義文, 高村(山田)由起子. 非柱状単位層構造を有する層状III族モノカルコゲナイド薄膜のMBE成長. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2020. 67th
  • 高村(山田) 由起子, 尾崎 泰助. 2次元材料の電子状態解析ーシリセン研究における実験と計算の協奏. 応用物理. 2017. 86. 6. 488-492
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書籍 (2件):
  • ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線
    株式会社エヌ・ティー・エス 2020
  • ADVANCES IN MATERIALS RESEARCH 10, Frontiers in Materials Research
    Springer 2008
講演・口頭発表等 (157件):
  • Dislocation Annihilation in Epitaxial Silicene
    (19th International Conference on Diffusion in Solids and Liquids (DSL-2023) 2023)
  • Novel two-dimensional materials stabilized on substrates
    (9th International Workshop on 2D Materials, A3 Foresight Program 2022)
  • 基板上二次元材料の原子レベル構造制御
    ((公社)日本表面真空学会 東日本合同セミナー 表面・薄膜分析シリーズ Vol.7 先端的試料作製技術〜原子層物質〜 2021)
  • Electronic structure and optical properties of GaSe with trigonal-antiprismatic structure studied by first-principles calculations
    (Materials Research Meeting 2021 2021)
  • ケイ素版グラフェン「シリセン」の物理と化学
    (ケイ素化学協会 2021年度第6回Web講演会 2021)
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学歴 (3件):
  • - 1998 東京大学 大学院工学系研究科 金属工学専攻博士課程修了
  • - 1995 東京大学 大学院工学系研究科 金属工学専攻修士課程修了
  • - 1993 東京大学 工学部 材料学科卒業
学位 (3件):
  • 博士(工学) (東京大学)
  • 修士(工学) (東京大学)
  • 学士(工学) (東京大学)
経歴 (16件):
  • 2022/04 - 現在 北陸先端科学技術大学院大学 ナノマテリアルテクノロジーセンター 教授(兼務)
  • 2020/04 - 現在 北陸先端科学技術大学院大学 先端科学技術研究科 教授
  • 2020/04 - 2021/03 北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科 教授
  • 2016/04 - 2020/03 北陸先端科学技術大学院大学 先端科学技術研究科 准教授
  • 2011/04 - 2020/03 北陸先端科学技術大学院大学 マテリアルサイエンス研究科 准教授
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委員歴 (16件):
  • 2023/10 - 現在 日本学術会議 第26期連携会員
  • 2023/04 - 現在 応用物理学会薄膜・表面物理分科会 常任幹事
  • 2021/05 - 現在 文部科学省 科学技術・学術審議会専門委員(第11期、第12期ナノテクノロジー・材料科学技術委員会)
  • 2020 - 現在 能美市教育委員会 『能美市子ども未来創造フェスティバル』実行委員
  • 2017/04 - 現在 応用物理学会 薄膜・表面物理分科会 幹事
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受賞 (3件):
  • 2007/01 - IFCAM Workshop on Surface and Interface Science Poster Award
  • 2006/08 - 3rd Materials Science School for Young Scientists Best Poster Award
  • 2006/07 - 本多記念会 第46回原田研究奨励賞
所属学会 (3件):
アメリカ物理学会 ,  応用物理学会 ,  日本金属学会
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