研究者
J-GLOBAL ID:200901047746633690
更新日: 2024年01月30日
上野 和良
ウエノ カズヨシ | Ueno Kazuyoshi
所属機関・部署:
職名:
教授
研究キーワード (2件):
電子デバイス 電子材料 導電体 電子物性
, electron devices electronic materials conductor solid state physics
競争的資金等の研究課題 (12件):
- 2022 - 2025 電流印加によるナノカーボンの構造変化と抵抗変化の関係解明
- 2022 - 2024 グリーエレクトロニクス国際研究センター
- 2018 - 2023 電流印加による多層グラフェン固相析出プロセスの低温化と低抵抗化
- 2014 - 2022 グリーンイノベーション研究センター
- 2015 - 2021 デジタルデータの長期保管を実現する高信頼メモリシステム
- 2014 - 2018 電流ストレス印加CVDおよびアニールによるグラフェン配線の低抵抗化
- 2012 - 2015 血中酸素飽和度測定のための超薄型センサーヘッドシステムの開発
- 2010 - 2015 低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト(LEAP)
- 2010 - 2012 超臨界アニールおよびEMアニールによる微細銅配線の低抵抗化
- 2008 - ナノカーボン材料の配線応用
- 2006 - 無電解めっきによるナノバリア膜形成
- 2006 - 銅配線の低抵抗化のためのナノ構造制御
全件表示
論文 (94件):
-
Yumehito Temmyo, Reno Hasumi, Kazuyoshi Ueno. Graphene cap formation on nickel thin films by thermal CVD at low temperarure. IEEE International Interconnect Technology Conference 2023. 2023. 8-4. 1-3
-
Shun Nakajima, Yoko Wasai, Kenji Kawahara, Nataliya Nabatova-Gabain, Ploybussara Gomasang, Hiroki Ago, Hiroyuki Akinaga, Kazuyoshi Ueno. Structural analysis of graphene-capped copper by spectroscopic ellipsometry for humidity reliability assessment. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SC. SC1092-SC1092
-
Keigo Hosokawa, Kenta Matsunaga, Kazuyoshi Ueno. Intercalated multilayer graphene/Nick graphene/Nickel hybrid antenna with enhanced inductance density for. 7th IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing (EDTM) Conf. 2023. 2023. 748-750
-
Ryutaro Tsuchida, Kazuyoshi Ueno. Optimization for current-enhanced solid-state deposition of multilayer graphene with high crystallinity and uniformity. Proceeding of 11th International Conference on Nano and Materials Sciences (ICNMS2023). 2023. 53-58
-
Kazuyoshi Ueno. Advances in multilayer graphene processes for metallization and high-frequency devices. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 62. SA. SA0802-SA0802
もっと見る
MISC (149件):
-
吉原樹, 亀田夏美, 古市隼大, RAMLI Nur Iyani Izzati Binti, 上野和良, 上野和良. 窒素添加したアモルファスカーボンを用いた抵抗変化メモリの検討. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
-
泉沢錬, 小早川祥輝, 上野和良, 上野和良. 窒素添加ニッケル触媒を用いた電流印加固相析出法による多層グラフェン形成. 半導体・集積回路技術シンポジウム(CD-ROM). 2020. 84th
-
秋本知輝, 時田純平, 上野和良, 上野和良. Ni触媒を用いた電流印加CVD法による結晶性の良い多層グラフェンの形成. 半導体・集積回路技術シンポジウム(CD-ROM). 2019. 83rd
-
上野和良, 上野和良, GOMASANG Ploybussara, 阿部拓実, 河原憲治, 和才容子, CUONG Nguyen Thanh, NABATOVA-GABAIN Nataliya, 吾郷浩樹, 岡田晋. 銅配線のためのグラフェンキャップ膜の耐湿バリア性. 電子情報通信学会技術研究報告. 2018. 117. 429(SDM2017 97-103)
-
上野和良. ナノカーボンの配線・電極への応用. 電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM). 2018. 85th
もっと見る
特許 (27件):
-
半導体結晶の構造
-
半導体結晶の構造
-
半導体結晶の構造
-
配線の構造およびその製造方法
-
電界効果トランジスタ
もっと見る
書籍 (27件):
-
半導体・MEMSのための超臨界流体
コロナ社 2012 ISBN:9784339008371
-
Grain Growth of Electroplated Copper Film by Alternative Annealing Methods(共著)
Conference Proceedings AMC XXIV 2009
-
Grain Growth of Electroplated Copper Film by Alternative Annealing Methods
Conference Proceedings AMC XXIV 2009
-
集積回路配線技術の動向と展望(基調講演)
日本機械学会関東支部第13期総合講演会講演論文集 2007
-
A high reliability Cu dual-damascene interconnection direct- contact via structure(Invited)(共著)
Stress-Induced Phenomena in Metallization, AIP Conf. Proceedings 2001
もっと見る
講演・口頭発表等 (153件):
-
Evolution of BEOL Technology withScaling
(2023 International Conference on Electronics Packaging 2023)
-
窒素プラズマ処理をした銅表面の耐湿性
(電気化学会第90回大会 2023)
-
ニッケル薄膜抵抗の膜厚依存性と熱的安定性
(電気化学会第90回大会 2023)
-
BEOL技術の変遷と最近の動向
(2023年第70回応用物理学会春季学術講演会 2023)
-
電流を印加した多層グラフェンの層交換成長
(電気化学会第89回大会 2023)
もっと見る
Works (6件):
-
Material and Process Challenges for Interconnects in Nanoelectronics Era (Invited)
2010 -
-
Chemical Vapor Deposition of Nanocarbon on Electroless Ni-B Allo Catalyst
2010 -
-
Material and Process Challenges for Interconnects in Nanoelectronics Era (Invited)
2010 -
-
Chemical Vapor Deposition of Nanocarbon on Electroless Ni-B Allo Catalyst
2010 -
-
Enhanced Grain Growth of Electroplated Copper Film by Annealing in Supercritical CO2 with H2
2009 -
もっと見る
学歴 (2件):
- 1982 - 1984 東北大学 大学院工学研究科 応用物理学専攻
- 1978 - 1982 東北大学 工学部 応用物理学科
学位 (1件):
経歴 (5件):
- 2006/04 - 現在 芝浦工業大学 工学部電子工学科 教授
- 2005 - 2006 NECエレクトロニクス シニアプロフェッショナル
- 1996 - 2005 日本電気/NECエレクトロニクス 課長
- 1990 - 1996 日本電気株式会社 マイクロエレクトロニクス研究所 主任
- 1984 - 1990 日本電気株式会社 マイクロエレクトロニクス研究所
委員歴 (7件):
受賞 (2件):
- 2018/09 - 応用物理学会 応用物理学会フェロー表彰 集積回路用の銅配線技術に関する先駆的研究
- 2004 - 電気化学会半導体・集積回路技術シンポジウムアワード
所属学会 (5件):
Institute of Electrical and Electronics Engineers
, 電気学会
, 応用物理学会
, 電子情報通信学会
, 電気化学会
前のページに戻る