研究者
J-GLOBAL ID：200901052100391226   更新日: 2022年09月20日

加藤 勇

カトウ イサム | Kato Isamu
所属機関・部署：
早稲田大学 理工学術院

早稲田大学 理工学術院 について


職名： 教授
ホームページURL (1件)： http://www.waseda.jp/sem-profkatoken/index.html
研究分野 (1件)： 電気電子材料工学
研究キーワード (7件)： プラズマエレクトロニクス ,  プラズマ理工学 ,  光子材料 ,  光子工学 ,  Plasma Electronics ,  Photonic Materials ,  Photonics
競争的資金等の研究課題 (8件)：
  • 光計測
  • 光子材料の作製
  • プラズマエレクトロニクス
  • 光導波路を用いた極薄膜の計測法
  • マイクロ波プラズマCVD
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MISC (600件)：
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講演・口頭発表等 (3件)：
  • TEOSガスを用いて作製したSi系薄膜のPL発光強度とその組成依存性
    (第60回応用物理学会関係連合講演会 2013)
  • 空気を用いた空間的アフターグロープラズマ滅菌におけるラジカル種と紫外線の殺菌効果の比較
    (第60回応用物理学会関係連合講演会 2013)
  • TEOSで作製したa-Si膜のPL発光特性のマイクロ波電力依存性
    (第73回応用物理学会学術講演会講演 2012)
Works (120件)：
  • a-Si:H膜成長中のイオン衝撃効果について(III)
    1998 -
  • 磁界印加型同軸線路形MPCVD装置におけるH<sub>2</sub>/SiH<sub>4</sub>プラズマを用いたa-Si:H膜の作製
    1998 -
  • Effect of Ion Bombardment during a-Si : H Film Growth(III)
    1998 -
  • Fabrication of a-Si : H film Using H<sub>2</sub>-SiH<sub>4</sub> Plasma in Magnetic Field Applied Coaxial Line Type MPCVD System
    1998 -
  • Fabrication of a-Si : H Film Using H<sub>2</sub>-SiH<sub>4</sub> Plasma by Longitubinal Magnetic Field Applied MPCVD System
    1998 -
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学歴 (4件)：
  • - 1972 早稲田大学 理工学研究科 電気工学
  • - 1972 早稲田大学
  • - 1967 早稲田大学 理工学部 電子通信学科
  • - 1967 早稲田大学
学位 (1件)：
  • 工学博士 (早稲田大学理工学部)
委員歴 (5件)：
  • 1992 - 2005 電気学会 医用・生体工学技術委員会1号委員
  • 1988 - 1990 応用物理学会 プラズマエレクトロニクス研究会委員長
  • 1981 - 1988 日本真空協会 編集委員
  • 1985 - 1987 電子情報通信学会 エレクトロニクスグループ会計幹事
  • 1981 - 1987 テレビジョン学会 編集委員会委員
受賞 (2件)：
  • 1989 - 橘記念論文賞
  • 1985 - 倉田奨励金
所属学会 (11件)：
IEEE(The Institute of Electrical and Electronics Engineers) ,  日本真空協会 ,  テレビジョン学会 ,  応用物理学会 ,  電気学会 ,  電子情報通信学会 ,  The Vacuum Society of Japan ,  The Japan Society of Applied Physics ,  The Institute of Electrical Engineers ,  Information and Comunication Engineers ,  The Institute of Electronics
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