研究者
J-GLOBAL ID:200901055617687191   更新日: 2024年03月24日

徳光 永輔

トクミツ エイスケ | EISUKE TOKUMITSU
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (1件): 電子デバイス、電子機器
研究キーワード (1件): 半導体デバイス、酸化物半導体、強誘電体、薄膜トランジスタ、不揮発性メモリ、パワーデバイス、溶液プロセス
競争的資金等の研究課題 (30件):
  • 2020 - 2023 強誘電体分極ダイナミクスを利用した急峻スイッチトランジスタの基盤技術構築
  • 2019 - 2023 単一アナログデバイスと局所的学習則を用いるリアルニューロモーフィックシステム
  • 2014 - 2016 パワー半導体への適用を目指した液体プロセスによるSiC膜の研究
  • 2012 - 2015 巨大電界効果を利用した可変面積電極の提案と可変容量キャパシタへの展開
  • 2012 - 2014 半導体コンタクトを用いたグラフェンチャネルトランジスタの電流制御
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論文 (62件):
MISC (214件):
書籍 (4件):
  • Oxide-Channel Ferroelectric-Gate Thin Film Transistors with Nonvolatile Memory Function
    “Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories”,Springer, 2016. 2016
  • Applications of Oxide Channel Ferroelectric-Gate Thin Film Transistors
    “Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories”, Springer, 2016. 2016
  • Materials and physics for nonvolatile memories II : spring 2010, April 5-9, San Francisco, California, U.S.A.
    Materials Research Society 2010 ISBN:9781605112275
  • 電子物性・材料の事典
    朝倉書店 2006
講演・口頭発表等 (211件):
  • Coating properties of chemical solution processed MoS2 thin films on various oxides
    (2017 European Materials Research Society (E-MRS) Spring Meeting, Strasbourg, France, May 22-26, 2017. paper Q.PM.4 2017)
  • Chemical Solution Process of In-Based Oxides and MoS2 for Thin Film Transistors
    (The 6th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2017), June 18-321, 2017, Fukui, paper PA2-1-1 2017)
  • Direct Imprinting of Oxide Precursor Gel for New Fabrication Process of Thin Film Transistors
    (The 6th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies (EM-NANO 2017), June 18-321, 2017, Fukui, paper PO3-47 2017)
  • Investigation of Nb-Zr-O thin film using sol-gel coating
    (82016 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD2016), paper B3-3(oral) July 4 - 6, 2016Hakodate Kokusai Hotel, Hakodate, Japan 2017)
  • Fabrication of MoS2 thin films on oxide-dielectric-covered substrates
    (Compound Semiconductor Week, June 26-30, 2016 Toyama International Conference Center, Toyama paper MoP-ISCS-121 2017)
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学歴 (3件):
  • - 1987 0192 東京工業大学 理工学研究科 電子物理工学
  • - 1987 東京工業大学
  • - 1982 東京工業大学 工学部 電子物理工学
学位 (1件):
  • 博士(工学) (東京工業大学)
経歴 (6件):
  • 2007 - 東京工業大学精密工学研究所 准教授
  • 2004 - 東京工業大学精密工学研究所 助教授
  • 2002 - 東北大学電気通信研究所助教授
  • 1992 - 東京工業大学 助教授
  • 1988 - AT&T Bell Laboratories Member of Technical Staff
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所属学会 (5件):
応用物理学会 ,  電子情報通信学会 ,  IEEE ,  IEEE ,  Materials Research Society
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