研究者
J-GLOBAL ID:200901057107029249   更新日: 2024年04月18日

白石 賢二

Shiraishi Kenji
研究分野 (1件): 薄膜、表面界面物性
競争的資金等の研究課題 (24件):
  • 2020 - 2023 省エネルギー次世代半導体デバイス開発のための量子論マルチシミュレーション
  • 2016 - 2021 省エネルギー社会の実現に資する次世代半導体研究開発
  • 2016 - 2019 IoT推進のための横断技術開発プロジェクト
  • 2014 - 2019 縦型BC-MOSFETのデバイス中の伝導現象の理論
  • 2015 - 2018 新規IV族系二次元物質の創製
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論文 (487件):
  • Hiroyuki Kageshima, Toru Akiyama, Kenji Shiraishi. First-principles study on barrier height of silicon emission from interface into oxide during silicon thermal oxidation. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 4. 04SP08-04SP08
  • Toru Akiyama, Hiroyuki Kageshima, Kenji Shiraishi. Reaction of NO molecule at 4H-SiC/SiO2 interface and its orientation dependence: a first-principles study. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3. 03SP80-03SP80
  • Hiroyuki Kageshima, Toru Akiyama, Kenji Shiraishi. First-principles study on silicon emission from interface into oxide during silicon thermal oxidation. Materials Science in Semiconductor Processing. 2023. 162. 107527-107527
  • Keisuke Morishita, Yosuke Harashima, Masaaki Araidai, Tetsuo Endoh, Kenji Shiraishi. Effect of MgO Grain Boundaries on the Interfacial Perpendicular Magnetic Anisotropy in Spin-Transfer Torque Magnetic Random Access Memory: A First-Principles Study. IEEE Transactions on Magnetics. 2023. 59. 4. 1-6
  • Yutaro Ogawa, Masaaki Araidai, Tetsuo Endoh, Kenji Shiraishi. Effect of interfacial nitrogen defects on tunnel magnetoresistance in an Fe/MgO/Fe magnetic tunnel junction. Journal of Applied Physics. 2022. 132. 21. 213904-213904
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MISC (94件):
  • 松田隼, 秋山亨, 畠山哲夫, 白石賢二, 中山隆史. 4H-SiC/SiO2界面におけるバンド配列の面方位依存性に関する理論検討. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 70th
  • 影島博之, 秋山亨, 白石賢二. Si酸化における界面から酸化膜へのSi放出過程の理論検討. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 70th
  • 松田隼, 秋山亨, 畠山哲夫, 白石賢二, 中山隆史. ハイブリッド密度汎関数法による4H-SiC/SiO2界面におけるバンド配列の面方位依存性の理論解析. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 84th
  • 秋山亨, 清水紀志, 伊藤智徳, 影島博之, 白石賢二. 4H-SiC/SiO2界面での窒素酸化物およびアンモニアの反応機構の理論的検討. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
  • 秋山亨, 清水紀志, 伊藤智徳, 影島博之, 白石賢二. 4H-SiC/SiO2界面での窒素取り込みの面方位依存性に関する理論検討. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
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講演・口頭発表等 (94件):
  • First Principles Studires on the Complex of the Mg Impurity and the Screw Dislocations in GaN
    (WebCongress on Computational Materials and Modeling, online 2021)
  • First principles molecular dynamics as a tool to explore complex reactions in GaN
    (International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation, online 2021)
  • Structures, electron states and reactions on growing surfaces and at device interfaces of SiC and GaN
    (International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation, online 2021)
  • What are nesesaary for future non-volatile memories?
    (Webinar on Science, Engineering and Technology, online 2020)
  • Atomic and Electronic Structures of Complexes of Screw Dislocations and Mg Impurities in GaN
    (International Webinar on Nanotechnology, online 2020)
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学歴 (1件):
  • 1978 - 1988 東京大学 理学系研究科
経歴 (7件):
  • 2015/10 - 現在 名古屋大学 未来材料・システム研究所 教授
  • 2013/05 - 2015/09 名古屋大学大学院工学研究科 計算理工学専攻 教授
  • 2007/10/16 - 2013/05/15 筑波大学 教授 大学院数理物質科学研究科
  • 2007/04/01 - 2007/10/15 筑波大学 准教授 大学院数理物質科学研究科
  • 2004/04/01 - 2007/03/31 筑波大学 助教授 大学院数理物質科学研究科
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所属学会 (5件):
IEEE ,  日本結晶成長学会 ,  日本物理学会 ,  応用物理学会 ,  日本表面科学会
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