研究者
J-GLOBAL ID:200901069901570726
更新日: 2024年01月30日
安田 雅昭
ヤスダ マサアキ | Yasuda Masaaki
所属機関・部署:
職名:
准教授
研究分野 (4件):
電子デバイス、電子機器
, ナノ構造物理
, 結晶工学
, 応用物性
研究キーワード (4件):
電子ビーム応用
, 微細加工
, ナノ計算科学
, Application of Electron Beam
競争的資金等の研究課題 (9件):
- 2019 - 2021 低加速二次電子像におけるコントラスト増幅観察法の開発
- 2015 - 2018 スケール境界領域におけるパターン形成技術に関する理論的研究
- 2013 - 2016 電子線ナノプロセスのマルチフィジックスシミュレーション
- 2011 - 2014 モンテカルロ法・分子動力学法融合型次世代電子線リソグラフィシミュレーションの開発
- 2010 - 2013 ナノカーボン材料を対象とした電子ビーム構造制御の理論解析
- 2008 - 2010 電子ビーム励起プロセシングを対象とした分子シミュレーションの開発
- 2006 - 2008 電子ビームプロセシングにおける材料のナノダイナミクス
- 1998 - 2000 スピン偏極電子線マイクロアナライザの開発
- Monte Carlo Simulation of Electron Scattering
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論文 (143件):
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Chen Tang, Atsushi Sekiguchi, Yosuke Ohta, Yoshihiko Hirai, Masaaki Yasuda. Surface property control for 193 nm immersion resist by addition of Si compound. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2023. 41. 1. 012602
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Yoshihiko Hirai, Sou Tsukamoto, Hidekatsu Tanabe, Kai Kameyama, Hiroaki Kawata, Masaaki Yasuda. Smart Systems for Material and Process Designing in Direct Nanoimprint Lithography Using Hybrid Deep Learning. Nanomaterials. 2022. 12. 15. 2571-2571
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Bunta Inoue, Masanori Koyama, Atsushi Sekiguchi, Masamitsu Shirai, Yoshihiko Hirai, Masaaki Yasuda. Stochastic Simulation of Development Process in Electron Beam Lithography. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2021. 34. 6. 661-665
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M. Koyama, K. Imai, M. Shirai, Y. Hirai, M. Yasuda. Effects of acid diffusion and resist molecular size on line edge roughness for chemically amplified resists in EUV lithography: computational study. Jpn. J. Appl. Phys. 2021. 60. 106505
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S. Tsukamoto, H. Tanabe, R. Yamamura, K. Kameyama, H. Kawata, M. Yasuda, Y. Hirai. Proposal of Hybrid Deep Learning System for Process and Material Design in Thermal Nanoimprint Lithography. J. Photopolym. Sci. Technol. 2021. 34. 2. 145-148
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MISC (47件):
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多田和広, 向川慶汰, 金原光尊, 宮下侑也, 安田雅昭, 平井義彦. 分子動力学法による有機ナノ薄膜のせん断特性解析(II). 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2020. 67th
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多田和広, 向川慶汰, 金原光尊, 宮下侑也, 安田雅昭, 平井義彦. 分子動力学法による有機ナノ薄膜のせん断特性解析. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2019. 80th
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多田和広, 日比彗太, 安田雅昭. 電子ビーム照射下におけるシリカガラスの構造変化解析. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2019. 80th
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多田和広, 仲田健人, 安田雅昭. 電子ビーム照射下における二次元MoS2の構造変化解析. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2019. 80th
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多田和広, 向川慶汰, 金原光尊, 宮下侑也, 安田雅昭, 平井義彦. 分子動力学法による有機ナノ薄膜のせん断特性解析. 日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web). 2019. 2019
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書籍 (4件):
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Computational Chemistry: Theories, Methods and Applications
Nova Science Publishers 2014
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Advances in Nanotechnology. Volume 11
Nova Science Publishers 2014
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Lithography, Capt.26 : Molecular Dynamics Study on Mold and Pattern Breakages in Nanoimprint Lithography
IN-TECH 2010
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表面分析技術選書 計算シミュレーションと分析データ解析 第4・2節 電子散乱のシミュレーション
丸善株式会社 2008
講演・口頭発表等 (8件):
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Computational Study of Pattern Formation for Chemically Amplified Resists in Extreme Ultraviolet Lithography
(36th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2019)
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Computational Study of Pattern Formation in UV Nanoimprint Lithography
(35th Int. Conf. of Photopolym. Sci. and Technol. 2018)
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Computational Study of Temperature Distribution in Electron-Irradiated Graphene
(11th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’17 2017)
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Multiscale Simulation of Development Process in Electron Beam Lithography
(34th Int. Conf. of Photopolym. Sci. and Technol. 2017)
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Multiphysics Simulation of Nanopatterning in Electron Beam Lithography
(33rd Int. Conf. of Photopolym. Sci. and Technol. 2016)
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学歴 (4件):
- - 1994 大阪府立大学大学院 工学研究科 電子工学専攻
- - 1994 大阪府立大学
- - 1989 大阪府立大学 工学部 電子工学科
- - 1989 大阪府立大学
学位 (1件):
委員歴 (7件):
所属学会 (4件):
米国マイクロビームアナリシス学会
, 日本表面真空学会
, 日本顕微鏡学会
, 応用物理学会
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