研究者
J-GLOBAL ID:200901080697489764   更新日: 2024年02月01日

梅田 享英

ウメダ タカヒデ | Umeda Takahide
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究キーワード (2件): 量子センシング ,  パワーエレクトロニクス
競争的資金等の研究課題 (14件):
  • 2020 - 2024 ワイドギャップ半導体MOS界面欠陥の正体の横断的解明
  • 2017 - 2019 ワイドギャップ半導体MOS界面欠陥の正体の横断的解明
  • 2017 - 2019 GaN物性を最大限に発揮させる最適なパワーデバイス構造の確立とその工業的な製造プロセスに繋がる絶縁膜形成技術の研究開発
  • 2014 - 2016 炭化ケイ素中のシリコン空孔欠陥を用いた単一フォトン操作
  • 2013 - 2014 電子的欠陥評価ーDRAMトランジスタの接合リーク電流原因解析
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論文 (62件):
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書籍 (8件):
  • SiC酸化膜界面のパッシベーション技術
    応用物理学会先進パワー半導体分科会 2016 ISBN:9784863485846
  • 応用物理
    応用物理学会 2016
  • EDMR分光法によるシリコンMOSFET内部の結晶欠陥観察:トランジスタの中で欠陥は何をしているのか?(ISBN:978-4-86348-235-7)
    応用物理学会分科会 シリコンテクノロジーNo.146 2012
  • 第40回 薄膜・表面物理基礎講座「ナノ材料研究者のための表面・界面の評価技術の基礎と動向」(ISBN:978-4-86348-207-4)
    応用物理学会薄膜・表面物理分科会 2011
  • 半導体SiC技術と応用(第2版、松波弘之・大谷昇・木本恒暢・中村孝編著)
    日刊工業新聞社 2011
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講演・口頭発表等 (28件):
  • 4H-SiC Si面・a面・m面界面欠陥の電流検出型電子スピン共鳴分光法による評価
    (先進パワー半導体分科会 第6回講演会 2019)
  • Electrically-detected-magnetic-resonance study on interface defects at a-face and m-face 4H-SiC/SiO2 interfaces
    (International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM 2019) 2019)
  • The PbC (carbon dangling bond) center at 4H-SiC(0001)/SiO2 interface: An EDMR study
    (International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM 2019) 2019)
  • SiC酸化膜界面の基礎物性解明に向けて
    (SIP「次世代パワーエレクトロニクス」公開シンポジウム 2019)
  • 4H-SiC MOSFETチャネルの単一光子源のゲート電圧制御(II)
    (第66回応用物理学会春季学術講演会 2019)
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学歴 (2件):
  • - 1999 筑波大学 工学研究科 物質工学
  • - 1994 筑波大学 第三学群 基礎工学類
経歴 (2件):
  • 1999 - 2003 日本電気株式会社 基礎研究所/シリコンシステム研究所
  • 1998 - 1999 日本学術振興会 特別研究員
受賞 (2件):
  • 1999/03 - 応用物理学会 応用物理学会講演奨励賞
  • 1999 - Young Scientist Award for the Presentation of an Excellent Paper
所属学会 (1件):
応用物理学会
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