研究者

J-GLOBAL ID：200901085589761514 更新日: 2020年06月07日

浅見廣樹

Asami Hiroki

所属機関・部署：
職名：准教授

研究分野 (1件)：薄膜、表面界面物性

研究キーワード (3件)：放電プラズマ焼結 , メカニカルアロイング , 硬質セラミックス

競争的資金等の研究課題 (1件)：

硬質薄膜材料、遷移金属セラミックス

論文 (13件)：

浅見廣樹. 放電プラズマ焼結法によるCr-Mg-N-O焼結体の作製. 日本金属学会誌第79号 pp.215~219. 2015
浅見廣樹. パルスレーザー堆積法による傾斜組成Cr-A1-N-O薄膜の作製. 日本金属学会誌第76号 pp.391~396. 2012
浅見廣樹. Preparation of Cr(N,0) thin films by RF reactive unbalanced magnetron sputtering. Thin Solid Films, 519[11] (2011) pp.3497-3500. 2011
Jun Shirahata, Tetsutaro Ohori, Hiroki Asami, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu, Koichi Niihara. Fourier-Transform Infrared Absorption Spectroscopy of Chromium Nitride Thin Film. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2011. 50. 1
浅見廣樹. Si添加による立方晶窒化ホウ素薄膜の密着性向上と厚膜化. 日本金属学会誌、74 (2010) pp. 36-41. 2010

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講演・口頭発表等 (2件)：

MA-SPSプロセスによるTi-Al-N焼結体材料の作製
(2017)
窒化チタンクロム系硬質セラミックス材料開発に関する研究
(日本金属学会2017年秋季講演大会 2017)

学位 (1件)：

博士(工学) (長岡技術科学大学大学院)

所属学会 (3件)：

日本機械学会 , 日本金属学会 , 日本セラミックス協会

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