文献

J-GLOBAL ID：200902000010885576   整理番号：90A0739763

Plasma etching of chrome masks using PBS resist.

著者 (2件)： BELL G (BMP Plasmatechnologie GmbH, Oberhaching, DEU) ,  SPIERER H (Siemens AG, Munich, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 1264  ページ： 446-451  発行年： 1990年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： PbS