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文献J-GLOBAL ID:200902000025890029整理番号:89A0191326

Chemical vapour deposition coating of crystalline Si3N4 on a quartz crucible for nitrogen-doped Czochralski silicon crystal growth.

窒素ドープのチョクラルスキーけい素結晶成長用石英るつぼ上における結晶質Si3N4の化学的蒸着被膜

著者:DOI H(Mitsubishi Metal Corp., Omiya, JPN)、KIKUCHI N(Mitsubishi Metal Corp., Omiya, JPN)、OOSAWA Y(Mitsubishi Metal Corp., Omiya, JPN)
資料名:Mater Sci Eng A Struct Mater Prop Microstruct Process 巻:105/106 号:Pt.2 ページ:465-480
発行年:1988年12月
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