酸化ひ素(V)の蒸発に関するマトリックス分離研究  赤外分光法によるAs<sub>4</sub>O<sub>n</sub>(n=7~10)分子のキャラクタリゼーション

BRISDON A K; GOMME R A; OGDEN J S

文献

J-GLOBAL ID：200902000027312758 整理番号：87A0232376

酸化ひ素(V)の蒸発に関するマトリックス分離研究赤外分光法によるAs₄O_n(n=7~10)分子のキャラクタリゼーション

Matrix-isolation studies on the vaporisation of arsenic(V) oxide : The characterisation of molecular species As₄O_n (n=7-10) by infrared spectroscopy.

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号： 12 ページ： 2725-2730 発行年： 1986年12月
JST資料番号： A0270A ISSN： 1472-7773 CODEN： JCDTBI 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

真空中で酸化ひ素(V)の加熱による生成物を低温マトリックス中...

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無機化合物の赤外・Ramanスペクトル(分子)

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酸化ひ素(V)の蒸発に関するマトリックス分離研究 赤外分光法によるAs4On(n=7~10)分子のキャラクタリゼーション

酸化ひ素(V)の蒸発に関するマトリックス分離研究赤外分光法によるAs₄O_n(n=7~10)分子のキャラクタリゼーション