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J-GLOBAL ID：200902000067271299   整理番号：91A0405451

ウェハー付着粒子による清浄度評価について

Evaluation of cleanliness by particles on wafer surface.

著者 (3件)： 呂俊民 (竹中工務店) ,  石黒武 (竹中工務店) ,  今昭典 (竹中工務店)
資料名： 空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会予稿集  (空気清浄とコンタミネーションコントロール研究に関する技術研究大会予稿集)
巻： 10th  ページ： 35-38  発行年： 1991年04月 
JST資料番号： Y0789A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 全面垂直層流クリーンルーム内でモニターウエハを0Vと600V...

シソーラス用語： ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： 層流クリーンルーム

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分類 (2件)： 空気浄化  (PC02060X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： ウェハー ,  清浄度 ,  評価