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文献
J-GLOBAL ID:200902000068530484   整理番号:91A0704220

酸化したケイ素上の金属薄膜界面欠陥のフラクトエミッションによる評価

Characterization of the interfacial failure of metal thin films on oxidized silicon using fracto-emission.
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 2563-2565  発行年: 1991年07月 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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酸化したケイ素表面上の金属薄膜が付着不良の時のフラクトエミッ...
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分類 (3件):
分類
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金属の機械的性質  ,  金属-絶縁体-半導体構造【’81~’92】  ,  その他の電子放出 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
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