J-GLOBAL ID:200902000068530484整理番号:91A0704220
Characterization of the interfacial failure of metal thin films on oxidized silicon using fracto-emission.
酸化したケイ素上の金属薄膜界面欠陥のフラクトエミッションによる評価
著者:XIONG‐SKIBA P(Wesleyan Univ., Connecticut)、DOERING D L(Wesleyan Univ., Connecticut)、SIEK K H(Wesleyan Univ., Connecticut)
資料名:J Vac Sci Technol A 巻:9 号:4 ページ:2563-2565
発行年:1991年07月
資料名:J Vac Sci Technol A 巻:9 号:4 ページ:2563-2565
発行年:1991年07月