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J-GLOBAL ID：200902000068997129   整理番号：86A0215339

GaAsの高密度電子-正孔プラズマの非熱的および熱的緩和

Athermal and thermal relaxation of high density electron-hole plasma in GaAs.

著者 (2件)： COLLET J (Lab. Physique des Solides CNRS, France) ,  AMAND T (Lab. Physique des Solides CNRS, France)
資料名： Physica B+C  (Physica B+C)
巻： 134  号： 1/3  ページ： 394-398  発行年： 1985年11月 
JST資料番号： H0676A  ISSN： 0378-4363  CODEN： PHYSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： GaAsにおいて初期の非熱的域における準ピコ秒励起下の電子-...

シソーラス用語： ヒ化ガリウム ,...

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分類 (1件)： 固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (6件)： GaAs ,  高密度 ,  電子 ,  正孔 ,  プラズマ ,  緩和