文献
J-GLOBAL ID:200902000070332177
整理番号:91A0649930
常圧焼結窒化ケイ素の高温環境下におけるき裂進展挙動
Crack growth behavior of a normal-pressure-sintered silicon nitride compact in high-temperature environment.
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=91A0649930©=1") }}
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=91A0649930&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0052A") }}