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文献J-GLOBAL ID:200902000070332177整理番号:91A0649930

常圧焼結窒化ケイ素の高温環境下におけるき裂進展挙動

Crack growth behavior of a normal-pressure-sintered silicon nitride compact in high-temperature environment.

著者:上野明(豊田工大)、岸本秀弘(豊田工大)、河本洋(トヨタ自動車)・・・
資料名:日本材料学会学術講演会前刷 巻:40th ページ:249-251
発行年:1991年
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