狭いアルミニウム-銅相互接続での致命的なエレクトロマイグレーションボイド

ROSE J H

文献

J-GLOBAL ID：200902000096238543 整理番号：93A0026514

狭いアルミニウム-銅相互接続での致命的なエレクトロマイグレーションボイド

Fatal electromigration voids in narrow aluminum-copper interconnect.

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資料名：
巻： 61 号： 18 ページ： 2170-2172 発行年： 1992年11月02日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Al-2wt%Cu薄膜導体の致命的なエレクトロマイグレーショ...

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金属の格子欠陥 , 金属中の拡散 , 固体デバイス製造技術一般

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