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文献
J-GLOBAL ID:200902000107746660   整理番号:91A0696424

イオン注入

Ion implantation. Electrochemical characterization of modified surfaces.
Implantieren von Ionen. Elektrochemische Charakterisierung von modifizierten Oberflaechen.
著者 (1件):
資料名:
巻: 45  号:ページ: 323-329  発行年: 1991年07月 
JST資料番号: D0055A  ISSN: 0026-0797  CODEN: MOFEA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: ドイツ (DEU)  言語: ドイツ語 (DE)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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イオン注入は半導体工業で利用されるだけでなく,高品質材料の表...
シソーラス用語:
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準シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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放射線による構造と物性の変化一般  ,  その他の表面処理 
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タイトルに関連する用語
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