赤外線吸収分光法を用いたタングステンの選択的CVDのIn-situ分析 (II).WF<sub>6</sub>のSiH<sub>4</sub>との化学反応

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J-GLOBAL ID：200902000131938880 整理番号：90A0919715

赤外線吸収分光法を用いたタングステンの選択的CVDのIn-situ分析 (II).WF₆のSiH₄との化学反応

In-situ analysis of selective CVD of tungsten using infrared absorption spectroscopy. (II). Chemical reaction of WF₆ with SiH₄.

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巻： 51st 号： 2 ページ： 667 発行年： 1990年09月
JST資料番号： Y0055A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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