文献
J-GLOBAL ID:200902000147233533   整理番号:91A0570743

光照射および照射損傷a-Si:Hにおける自己補償ドーピング

Autolcompensation Doping in Light-Soaked and in Radiation-Damaged a-Si:H.
著者 (3件):
資料名:
巻: 52  号:ページ: 335-338  発行年: 1991年05月 
JST資料番号: D0256C  ISSN: 0947-8396  CODEN: APHYCC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
n型a-Si:H膜を光,電子,陽子および重イオンビームで照射...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,...
   続きはJDreamIII(有料)にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=91A0570743&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0256C") }}
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜  ,  半導体の放射線による構造と物性の変化 

前のページに戻る