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文献
J-GLOBAL ID:200902000152136473   整理番号:87A0212555

拡散に対する模型化LOCOS効果

Modeling LOCOS effects on diffusion.
著者 (6件):
資料名:
ページ: 426-436  発行年: 1986年 
JST資料番号: K19870076  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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シリコンの拡散及び酸化過程で,シリコン割込み欠陥の拡散及び表...
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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半導体の格子欠陥  ,  固体デバイス製造技術一般 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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