文献

J-GLOBAL ID：200902001837673087   整理番号：93A0049684

アフタグロープラズマ化学蒸着法で作製したa-Si_1-xN_x:H膜における引張応力の発生機構

Generation Mechanism of Tensile Stress in a-Si_1-xN_x:H Films Prepared by Afterglow Plasma Chemical Vapor Deposition Technique.

著者 (7件)： NAGAYOSHI H (Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo) ,  HOE W C (Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo) ,  UENO T (Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo) ,  KAMISAKO K (Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo) ,  KUROIWA K (Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo) ,  TARUI Y (Tokyo Univ. Agriculture and Technology, Tokyo) ,  SHIMADA T (Hitachi, Ltd., Tokyo)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 31  号： 11B  ページ： L1628-1631  発行年： 1992年11月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記の非晶質窒化けい素膜をNH₃のマイ...

シソーラス用語： アフターグロー ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=93A0049684&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0599B") }}

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (4件)： アフタグロー ,  プラズマ化学蒸着法 ,  作製 ,  引張応力