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J-GLOBAL ID：200902001846829103   整理番号：90A0074602

深いUV,電子ビーム,X線リソグラフィーのためのアルカリ現像可能なシリコンをベースにしたネガティブ光レジスト

Alkali-developable silicone-based negative photoresist(SNP) for deep UV, electron beam, and X-ray lithographies.

著者 (4件)： BAN H (NTT LSI Lab., Kanagawa) ,  TANAKA A (NTT LSI Lab., Kanagawa) ,  KAWAI Y (NTT LSI Lab., Kanagawa) ,  DEGUCHI K (NTT LSI Lab., Kanagawa)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 28  号： 10  ページ： L1863-L1865  発行年： 1989年10月 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルカリ水溶液で現像可能な新しいシリコンをベースにしたネガテ...

シソーラス用語： 表面加工 ,...
準シソーラス用語： ピレン

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分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  試料技術  (BA02070O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子ビーム ,  X線リソグラフィー ,  アルカリ ,  現像 ,  シリコン ,  光レジスト