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文献J-GLOBAL ID:200902001891308742整理番号:85A0030784

Annealing stability of NbN/Pb Josephson tunnel junctions with plasma oxidized barriers.

プラズマ酸化障壁を持つNbN/Pb Josephsonトンネル接合の焼鈍安定性

著者:HIKITA M(Ibaraki Electrical Communication Lab.)、IWATA T(Ibaraki Electrical Communication Lab.)、IGARASHI M(Ibaraki Electrical Communication Lab.)
資料名:Jpn J Appl Phys Part 1 巻:23 号:2 ページ:266-267
発行年:1984年02月
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