文献
J-GLOBAL ID:200902001908893091
整理番号:91A0072857
注入窒素を使用した効果的なエッチストップ障壁としてのBESOI材料の製造
Fabrication of BESOI-materials using implanted nitrogen as an effective etch stop barrier.
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著者 (1件):
資料名:
ページ:
64-65
発行年:
1989年
JST資料番号:
K19901039
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般
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