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J-GLOBAL ID：200902001920963313   整理番号：81A0049181

電子ビームリソグラフィーで作った薄膜Nbマイクロブリッジの特性

Characteristics of Nb thin film microbridges fabricated by electron-beam lithography.
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著者 (4件)：
SHIRAFUJI J

SHIRAFUJI J について

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MATSUI S

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HIDA H

HIDA H について

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INUISHI Y

INUISHI Y について


資料名：
Technology Reports of the Osaka University  (Technology Reports of the Osaka University)

Technology Reports of the Osaka University について


巻： 30  号： 1551-1582  ページ： 491-495  発行年： 1980年10月 
JST資料番号： G0635A  ISSN： 0030-6177  CODEN： TROUA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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Si基板上にサブミクロンのNbマイクロブリッジを電子ビームリ...
シソーラス用語：
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超伝導マイクロブリッジ

超伝導マイクロブリッジ について

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分類 (1件)：
分類
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Josephson接合・素子 
(BM04043E)

Josephson接合・素子 について

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電子ビームリソグラフィー

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