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J-GLOBAL ID：200902001924398262   整理番号：86A0310582

多層構造素子の界面膜の輪郭を画くための試料準備法

Sample preparation technique for delineating interfacial films on device multilayer structures.
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資料名：
IBM Technical Disclosure Bulletin  (IBM Technical Disclosure Bulletin)

IBM Technical Disclosure Bulletin について


巻： 28  号： 4  ページ： 1753-1754  発行年： 1985年09月 
JST資料番号： E0292B  ISSN： 0018-8689  CODEN： IBMTA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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抄録/ポイント
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SEM解析のための半導体素子の断面の試料作成において最終の研...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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半導体素子

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シリカ

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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス計測・試験・信頼性 
(NC03040G)

固体デバイス計測・試験・信頼性 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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構造素子

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界面

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輪郭

輪郭 について

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試料準備

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