VLSI多段金属配線における容量係数

NING Z-Q; DEWILDE P M; NEERHOFF F L

文献

J-GLOBAL ID：200902001930232813 整理番号：87A0330571

VLSI多段金属配線における容量係数

Capacitance coefficients for VLSI multilevel metallization lines.

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巻： 34 号： 3 ページ： 644-649 発行年： 1987年03月
JST資料番号： C0222A ISSN： 0018-9383 CODEN： IETDAI 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ICPCプログラムを用いて妥当な数値計算結果を得た。その中で...

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半導体集積回路

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