ISHIKAWA K について
Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN について
YOSHIDA M について
Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN について
INOUE M について
Matsushita Electronics Corp., Kyoto, JPN について
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters について
ケイ素 について
半導体の放射線による構造と物性の変化 について
熱波 について
注入 について
シリコン について