文献
J-GLOBAL ID：200902001993007720   整理番号：92A0281597

Void growth as a function of residual stress level in thin, narrow aluminum lines.

著者 (5件)：
KORHONEN M A

KORHONEN M A について

(Crnell Univ., NY)

Crnell Univ., NY について

, 
BORGESEN P

BORGESEN P について

(Crnell Univ., NY)

Crnell Univ., NY について

, 
PASZKIET C A

PASZKIET C A について

(Crnell Univ., NY)

Crnell Univ., NY について

, 
LEE J K

LEE J K について

(Crnell Univ., NY)

Crnell Univ., NY について

, 
LI C-Y

LI C-Y について

(Crnell Univ., NY)

Crnell Univ., NY について


資料名：
Mechanical Behavior of Materials and Structures in Microelectronics  (Mechanical Behavior of Materials and Structures in Microelectronics)

Mechanical Behavior of Materials and Structures in Microelectronics について


ページ： 413-418  発行年： 1991年 
JST資料番号： K19920025  ISBN： 1-55899-120-4  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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