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J-GLOBAL ID：200902002004265178   整理番号：85A0015095

超高真空イオンマイクロプローブ質量分析計のための高輝度Csイオン源及びイオン光学系の最適化

Optimization of high brightness C_s ion source and ion optics for UHV-IMMA.

著者 (4件)： KOMATSU K (ULVAC Corp., Chigasaki) ,  TSUKAKOSHI O (ULVAC Corp., Chigasaki) ,  KATAGAWA T (ULVAC Corp., Chigasaki) ,  KOMIYA S (ULVAC Corp., Chigasaki)
資料名： Secondary Ion Mass Spectrometry  (Secondary Ion Mass Spectrometry)
ページ： 124-126  発行年： 1984年 
JST資料番号： K19840471  ISBN： 0-387-13316-X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素の検出,半導体部品のマイクロ分析に適した標記分析装置を開...

シソーラス用語： 二次イオン放出 ,...
準シソーラス用語： イオンマイクロプローブ質量分析

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分類 (4件)： 質量分析  (CC03013N) ,  分析機器  (CC02020S) ,  質量分析計  (BD02060M) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (8件)： 高真空 ,  イオンマイクロプローブ ,  質量分析計 ,  高輝度 ,  Cs ,  イオン源 ,  イオン光学 ,  最適化