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J-GLOBAL ID：200902002010503315   整理番号：84A0108495

金属蒸着と電子ビームナノリソグラフィー両技術の組合わせによるナノメータ金属構造の製造

Fabrication of nanometer metal structures by a combination of techniques of metal evaporation and E-beam nanolithography.

著者 (2件)： LEE K L (Cambridge Univ.) ,  AHMED H (Cambridge Univ.)
資料名： IEEE Electron Device Letters  (IEEE Electron Device Letters)
巻： 4  号： 7  ページ： 243-245  発行年： 1983年07月 
JST資料番号： B0344B  ISSN： 0741-3106  CODEN： EDLEDZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属熱蒸着用の多重素線フィラメント源を電子ビームナノリソグラ...

シソーラス用語： 回路パターン形成 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 金属蒸着 ,  電子ビーム ,  ナノリソグラフィー ,  組合わせ ,  ナノメータ ,  金属構造